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2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會(huì)

2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會(huì)

  • 【簡介】  2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會(huì)  Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition  基本信息...
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  • 最后更新:2023-08-25
展會(huì)信息詳情介紹
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  2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會(huì)

  Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition

  基本信息

  時(shí)間:2023年11月22-24日

  地點(diǎn):上海新國際博覽中心

  展會(huì)簡介

  微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動(dòng)力,21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。

  隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管,推動(dòng)芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展,在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的封裝工藝發(fā)展需求的情況下,大視場、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。“2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會(huì)”將于11月22-24日在上海新國際博覽中心隆重舉辦,歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀!

  參展理由

  1、品牌吸引力-在同行和客戶間展示形象、提升行業(yè)地位、品牌價(jià)值度、榮譽(yù)度。

  2、市場策略-了解市場信息、拓展銷售渠道、獲取市場訂單、維護(hù)銷售網(wǎng)絡(luò)。

  3、建立進(jìn)口、批發(fā)、經(jīng)銷、團(tuán)購、零售的銷售渠道。

  4、獲取產(chǎn)品的忠實(shí)粉絲您的品牌將會(huì)被及大眾媒體關(guān)注和***宣傳,成為產(chǎn)品中的明星。

  觀眾邀請

  邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位:電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、******、******、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專家代表等人員到會(huì)參觀、洽談。

  展會(huì)亮點(diǎn)

  平臺(tái):行業(yè)采購交流平臺(tái);

  了解:規(guī)劃、設(shè)計(jì)與施工國內(nèi)外產(chǎn)品新技術(shù)及服務(wù);

  建立:用戶直達(dá)現(xiàn)場,構(gòu)建新的客戶關(guān)系;

  結(jié)識(shí):上下游產(chǎn)業(yè)聯(lián)動(dòng),精彩論壇、沙龍助推業(yè)界專家、同仁及用戶零距離接觸;

  推廣:通過主承辦單位的行業(yè)沉淀,為您提供廣闊的市場推廣;

  日程安排

  報(bào)到布展:

  2023年11月20-21日

  展出時(shí)間:

  2023年11月22日

  2023年11月23日

  2023年11月24日

  參展范圍

  ◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等;

  ◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X***光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等;

  ◆光掩膜、鉻版、干版,凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等;~如果你需要全國各地最新展會(huì)參展商名錄,展會(huì)會(huì)刊,請瀏覽198代收展會(huì)資料網(wǎng)【展商名錄會(huì)刊下載網(wǎng)址:www.zg198.net】坐在家中也能尋覓好的產(chǎn)品與項(xiàng)目!

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